溶剂纯化系统能同时除去1种或几种有机溶剂如苯、正己烷、甲苯、四氢呋喃、戊烷、乙醚、 二氯甲烷、乙腈、氯甲烷、二氯乙烷、甲醇、吡啶、重水、二甲基甲酰胺、二乙基甲酰胺、氯仿、氯苯、环丁砜（需特殊处理）等中的O₂、H₂O等杂质，使之满足无氧、无水合成的需求。